這個年代的光刻機，其門檻還是很低的，其本質就是一臺投影儀，透過光將設計好的電路圖投射到矽片上，以光為刀，在矽片上刻出電路圖。
三大光刻機巨頭能做，還有其他小型的的光刻機廠商也能做,就連幾大晶片設計公司也可以嘗試做幾臺。
根據摩爾定律，同樣大小的積體電路，上面排列的電晶體數量每18個月就翻一番，效能會提升一倍。
但是，到20世紀90年代後，摩爾定律卻不能延續下去，為什麼呢？就是因為光刻機的光源波長在193奈米上再也降不下來,光源技術遇到了瓶頸。
雕刻的東西越精密，刀尖就必須越細越鋒利，怎樣才能將193奈米的光波磨細呢？
正當業界一籌莫展時，一位叫林本堅的華人工程師卻另闢蹊徑，提出了一個腦洞大開的方案。
他想到的辦法，就是在鏡頭和矽片之間加一層水。讓光經過水的折射，降為132n，這樣投射到矽片的圖案解析度更清晰，晶片密度可以更高。
這就是後世被人讚譽的沉浸式技術。
此時，林本堅正拿著拿著這種全新的方案、懷揣著夢想，到日、美、德等國各大光刻機公司上門推銷。
但是理想很完美，現實卻很殘酷。
光刻巨頭們都不看好這種沉浸式技術，他們覺得透過光源技術降低光波才是正道。
同時，在晶片製造中需要完全無汙染的環境，製造過程中加水容易產生水泡和造成汙染，直接影響晶片的良品率，誰也不願意為這種沉浸式技術耽誤自己的光源研究。
林本堅並沒有放棄，針對巨頭們的顧慮，不斷地最佳化自己的方案，一次又一次上門推銷,但卻是一次又一次地碰壁。
想到這裡，李向陽沒有遲疑，立刻給人打電話，抓緊聯絡林本堅，無論用什麼辦法，一定把這種沉浸式專利技術弄到手。
直接購買是不可能的，那就得到林本堅的授權，即使不能成為獨佔許可，那也不要讓人排出專利許可之外。
好在林本堅目前正在苦苦掙扎，為了推銷自己的專利技術，一直都處於冷落和嘲笑中，如果此時李向陽讓人伸出橄欖枝，相信林本堅會欣喜若狂，一定會願意授權沉浸式專利技術。
雖然李向陽所倡導的光刻機還沒有開始研發，目前連一個公司的影子還沒有，但這阻擋不住李向陽對光刻機制造的嚮往之心。
只要有錢，無論是人才,還是裝置，就連一些光刻機制造技術都可以獲得。
所以李向陽決定在全球範圍內大采購,進行買買買！不能兼併的公司，那就追加投資，一定要成為這些公司的合夥人，免得以後受制於人。
如果不方便中國公司出手的，那就拜託美國、歐洲、香港的公司出面，一定要提前做好光刻機研發的全球佈局。
接下來的一段時間內，李向陽在韓國頻繁走動，透過獨資和合資的方式，把一些和光刻機有關的韓國企業都掌握在自己手裡。
當李向陽準備到日本去旅遊的時候，郭有霖給他直接彙報了兩則好訊息。
一是韓國政府已經批准，法國半導體公司收購海力士半導體有效，允許雙方進行公司手續交接。
